Miniatura

Fitxers

165136.pdf (163.69 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

1998

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/18204

Effect of the nanoparticles on the structure and crystallization of amorphous silicon thin films produced by rf glow discharge

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1557/JMR.1998.0347

Resum

Thin films of nanostructured silicon (ns-Si:H) were deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition in the presence of silicon nanoparticles at 100 C substrate temperature using silane and hydrogen gas mixture under continuous wave (cw) plasma conditions. The nanostructure of the films has been demonstrated by diverse ways: transmission electron microscopy, Raman spectroscopy and x-ray diffraction, which have shown the presence of ordered silicon clusters (1!=2 nm) embedded in an amorphous silicon matrix. Due to the presence of these ordered domains, the films crystallize faster than standard hydrogenated amorphous silicon samples, as evidenced by electrical measurements during the thermal annealing.

Matèries

Pel·lícules fines, Nanopartícules, Silici, Cristal·lització

Matèries (anglès)

Thin films, Nanoparticles, Silicon, Cristallization

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

BERTRÁN SERRA, Enric, SHARMA, S. n., VIERA MÁRMOL, Gregorio, COSTA I BALANZAT, Josep, ST'AHEL, P., ROCA I CABARROCAS, P. (pere). Effect of the nanoparticles on the structure and crystallization of amorphous silicon thin films produced by rf glow discharge. _Journal of Materials Research_. 1998. Vol. 13, núm. 9, pàgs. 2476-2479. [consulta: 19 de febrer de 2026]. ISSN: 0884-2914. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/18204]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre