El CRAI romandrà tancat del 24 de desembre de 2025 al 6 de gener de 2026. La validació de documents es reprendrà a partir del 7 de gener de 2026.
El CRAI permanecerá cerrado del 24 de diciembre de 2025 al 6 de enero de 2026. La validación de documentos se reanudará a partir del 7 de enero de 2026.
From 2025-12-24 to 2026-01-06, the CRAI remain closed and the documents will be validated from 2026-01-07.
 
Miniatura

Fitxers

184391.pdf (1.59 MB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

2002-10-15

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/24794

Atomic structure of the nanocrystalline Si particles appearing in nanostructured Si thin films produced in low-temperature radiofrequency plasmas

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1063/1.1506382

Resum

Nanostructured Si thin films, also referred as polymorphous, were grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition. The term "polymorphous" is used to define silicon material that consists of a two-phase mixture of amorphous and ordered Si. The plasma conditions were set to obtain Si thin films from the simultaneous deposition of radical and ordered nanoparticles. Here, a careful analysis by electron transmission microscopy and electron diffraction is reported with the aim to clarify the specific atomic structure of the nanocrystalline particles embedded in the films. Whatever the plasma conditions, the electron diffraction images always revealed the existence of a well-defined crystalline structure different from the diamondlike structure of Si. The formation of nanocrystallinelike films at low temperature is discussed. A Si face-cubic-centered structure is demonstrated here in nanocrystalline particles produced in low-pressure silane plasma at room temperature.

Matèries

Estructura atòmica, Nanocristalls, Silici

Matèries (anglès)

Atomic structure, Nanocrystals, Silicon, Thin films, Plasma (Ionized gases), Pel·lícules fines, Plasma (Gasos ionitzats)

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

VIERA MÁRMOL, Gregorio, MIKIKIAN, M., BERTRÁN SERRA, Enric, ROCA I CABARROCAS, P. (pere), BOUFENDI, L.. Atomic structure of the nanocrystalline Si particles appearing in nanostructured Si thin films produced in low-temperature radiofrequency plasmas. _Journal of Applied Physics_. 2002. Vol. 92, núm. 8, pàgs. 4684-4694. [consulta: 1 de gener de 2026]. ISSN: 0021-8979. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/24794]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre