# name
Ultrafine particles produced by plasma enhanced chemical vapor deposition -from SiH4, CH4, NH3 and B2H6 gas mixtures- for nanostructured ceramics applications

# metadata.dc.description.abstract[].value
[eng] Ultrafine particles of silicon and related binary and ternary alloys of
the Si-B-C-N system produced in our research group from silane,
methane, diborane, ammonia and nitrogen precursor gases by
plasma enhanced chemical vapor deposition at low pressure and
room temperature are reviewed. The in-situ techniques of plasma
analysis and surface characterization (quadrupolar mass spectrometry,
optical emission spectroscopy and ellipsometry) providing evidence
of powder formation and the polymerization reactions based
on the SinH2n- negative radicals electrically confined in the plasma
sheath are described. The square wave modulation (SQWM) of the
rf power is discussed as an efficient method of controlling the powder
particle production with low particle-size dispersion. The properties
of the powder particles determined by different structural
characterization techniques providing their size and distribution,
crystalline order and morphology, chemical composition and chemical
bond vibrational characteristics, are analyzed and discussed

# metadata.dc.description.abstract[].value
[cat] Hom presenta una revisió sobre les partícules ultrafines de silici i els
seus aliatges binaris i ternaris del sistema Si-B-C-N, produïdes en el
nostre grup de recerca a partir dels gasos precursors silà, metà, diborà,
amoníac i nitrogen, per dipòsit químic en fase vapor (CVD) reforçat
per plasma, a baixa pressió i temperatura ambient. És descrita
també la utilització de tècniques in situ d'anàlisi per plasma i
de caracterització de superfícies (espectroscòpia de masses quadripolar,
espectroscòpia òptica d’emissió i el·lipsometria), que donaren
l’evidència de formació de partícules de pols i de reaccions
de polimerització basades en radicals negatius SinH2n– confinats
elèctricament en l’embolcall del plasma. La modulació d’ona quadrada
(SQWM) de la font de rf és estudiada com un eficient mètode
de control de la producció de partícules amb una petita dispersió
de llurs dimensions. Finalment, hom analitza i discuteix les propietats
de les partícules produïdes, determinades per diferents tècniques
de caracterització, que permeteren obtenir llurs dimensions
i distribució, ordre cristal·lí i morfologia, composició química i les
característiques vibracionals dels enllaços químics

# metadata.dc.relation.ispartof[].value
Contributions to Science, 1999, vol. 1, num. 1, p. 53-61

# metadata.dc.rights[].value
cc-by-nc-sa (c) Bertrán Serra et al., 1999

# metadata.dc.source[].value
Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

# metadata.dc.title[].value
Ultrafine particles produced by plasma enhanced chemical vapor deposition -from SiH4, CH4, NH3 and B2H6 gas mixtures- for nanostructured ceramics applications