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Title: Síntesis de capas de SiC en substrato de Si mediante implantación iónica
Author: Pérez, A.
Romano Rodríguez, Alberto
Serre, Christophe
Calvo Barrio, Lorenzo
Cabezas, R.
Morante i Lleonart, Joan Ramon
Keywords: Implantació d'ions
Carbur de silici
Microestructura
Ion implantation
Silicon carbide
Microstructure
Issue Date: 1997
Publisher: Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Abstract: En este trabajo se investiga la síntesis de estructuras SiC/Si mediante implantación iónica de carbono en Si. Las implantaciones se han realizado a energías entre 25 y 300 keV y las dosis en el rango lO^^ylO^^ cm , manteniendo el substrato a temperatura ambiente o 500°C. Algunas estructuras han sido recocidas a 1150°C. Los resultados indican que implantando a temperatura ambiente se forma una capa de SiC amorfa y de composición gradual, que recristaliza formando precipitados de ß-SiC con orientaciones aleatorias después del recocido. Además se forma un capa superficial rica en carbono, debida a la difusión del carbono hacia la superficie durante la implantación, y que desaparece con el recocido. Implantando a 500°C se forma directamente una capa con una muy alta densidad de precipitados de ß-SiC orientados preferencialmente con la matriz de silicio. Dada la estabilidad térmica y química de dicha capa se han realizado membranas de SiC mediante técnicas fotolitográficas y ataque químico selectivo, cuya rugosidad superficial es inferior a 6 nm. Estas membranas muestran unos gradientes de tensiones residuales, que prácticamente desaparecen después del recocido. Los resultados confirman la potencialidad de la implantación iónica para la formación de estructuras microme-cánicas de SiC sobre Si.
Note: Reproducció del document publicat a: http://boletines.secv.es/areas/home.php?id=36
It is part of: Boletin de la Sociedad Española de Ceramica y Vidrio, 1997, vol. 36, num. 3, p. 316-320
URI: http://hdl.handle.net/2445/65410
ISSN: 0366-3175
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