Miniatura

Fitxers

503422.pdf (62.17 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

2002

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/10641

Calorimetry of hydrogen desorption from a-Si nanoparticles

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevB.65.115403

Resum

The process of hydrogen desorption from amorphous silicon (a-Si) nanoparticles grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) has been analyzed by differential scanning calorimetry (DSC), mass spectrometry, and infrared spectroscopy, with the aim of quantifying the energy exchanged. Two exothermic peaks centered at 330 and 410 C have been detected with energies per H atom of about 50 meV. This value has been compared with the results of theoretical calculations and is found to agree with the dissociation energy of Si-H groups of about 3.25 eV per H atom, provided that the formation energy per dangling bond in a-Si is about 1.15 eV. It is shown that this result is valid for a-Si:H films, too.

Matèries

Ciència dels materials, Semiconductors amorfs, Pel·lícules fines

Matèries (anglès)

Structure of solids and liquids, Materials science, Surfaces and interfaces, Thin films

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

FARJAS SILVA, Jordi, DAS, D., FORT, J., ROURA GRABULOSA, Pere, BERTRÁN SERRA, Enric. Calorimetry of hydrogen desorption from a-Si nanoparticles. _Physical Review B_. 2002. Vol. 65, núm. 11, pàgs. 115403-115407. [consulta: 14 de gener de 2026]. ISSN: 0163-1829. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/10641]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre