Amb motiu del tancament d'estiu, la validació de documents es reprendrà a partir del 28 d'agost de 2026. Disculpeu les molèsties.
Con motivo del cierre de verano, la validación de documentos se reanudará a partir del 28 de agosto de 2026. Disculpad las molestias
Due to the summer closure, document validation will resume starting August 28, 2026. We apologize for any inconvenience.

Fitxers

561608.pdf (513.25 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

2008-07-25

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/25086

Nanoscale capacitance microscopy of thin dielectric films

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1063/1.2957069

Resum

We present an analytical model to interpret nanoscale capacitance microscopy measurements on thin dielectric films. The model displays a logarithmic dependence on the tip-sample distance and on the film thickness-dielectric constant ratio and shows an excellent agreement with finite-element numerical simulations and experimental results on a broad range of values. Based on these results, we discuss the capabilities of nanoscale capacitance microscopy for the quantitative extraction of the dielectric constant and the thickness of thin dielectric films at the nanoscale.

Matèries

Dielèctrics, Nanotecnologia

Matèries (anglès)

Dielectrics, Nanotechnology

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Enginyeria Electrònica i Biomèdica)
Articles publicats en revistes (Institut de Bioenginyeria de Catalunya (IBEC))

Citació

GOMILA LLUCH, Gabriel, TOSET GILABERT, Jorge and FUMAGALLI, Laura. Nanoscale capacitance microscopy of thin dielectric films. Journal of Applied Physics. 2008. Vol. 104, num. 2, pags. 024315. ISSN 0021-8979. [consulted: 18 of August of 2026]. Available at: https://hdl.handle.net/2445/25086

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre