Miniatura

Fitxers

59642.pdf (493.65 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

1992-01

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/24984

Computer-aided procedure for optimization of layer thickness uniformity in thermal evaporation physical vapor deposition chambers for lens coating

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1116/1.578073

Resum

A computer-aided method to improve the thickness uniformity attainable when coating multiple substrates inside a thermal evaporation physical vapor deposition unit is presented. The study is developed for the classical spherical (dome-shaped) calotte and also for a plane sector reversible holder setup. This second arrangement is very useful for coating both sides of the substrate, such as antireflection multilayers on lenses. The design of static correcting shutters for both kinds of configurations is also discussed. Some results of using the method are presented as an illustration.

Matèries

Disseny assistit per ordinador, Pel·lícules fines, Filtres òptics, Lents

Matèries (anglès)

Computer-aided design, Thin films, Light filters, Lenses

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

BOSCH I PUIG, Salvador. Computer-aided procedure for optimization of layer thickness uniformity in thermal evaporation physical vapor deposition chambers for lens coating. _Journal of Vacuum Science Technology A-Vacuum Surfaces and Films_. vol. 10. Vol. 1, núm. 98-104. [consulta: 20 de gener de 2026]. ISSN: 0734-2101. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/24984]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre