Carregant...
Fitxers
Tipus de document
ArticleVersió
Versió publicadaData de publicació
Llicència de publicació
Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/65410
Síntesis de capas de SiC en substrato de Si mediante implantación iónica
Títol de la revista
Director/Tutor
ISSN de la revista
Títol del volum
Recurs relacionat
Resum
En este trabajo se investiga la síntesis de estructuras SiC/Si mediante implantación iónica de carbono en Si. Las implantaciones se han realizado a energías entre 25 y 300 keV y las dosis en el rango lO^^ylO^^ cm , manteniendo el substrato a temperatura ambiente o 500°C. Algunas estructuras han sido recocidas a 1150°C. Los resultados indican que implantando a temperatura ambiente se forma una capa de SiC amorfa y de composición gradual, que recristaliza formando precipitados de ß-SiC con orientaciones aleatorias después del recocido. Además se forma un capa superficial rica en carbono, debida a la difusión del carbono hacia la superficie durante la implantación, y que desaparece con el recocido. Implantando a 500°C se forma directamente una capa con una muy alta densidad de precipitados de ß-SiC orientados preferencialmente con la matriz de silicio. Dada la estabilidad térmica y química de dicha capa se han realizado membranas de SiC mediante técnicas fotolitográficas y ataque químico selectivo, cuya rugosidad superficial es inferior a 6 nm. Estas membranas muestran unos gradientes de tensiones residuales, que prácticamente desaparecen después del recocido. Los resultados confirman la potencialidad de la implantación iónica para la formación de estructuras microme-cánicas de SiC sobre Si.
Matèries (anglès)
Citació
Citació
PÉREZ RODRÍGUEZ, Alejandro, ROMANO RODRÍGUEZ, Albert, SERRE, Christophe, CALVO BARRIO, Lorenzo, CABEZAS, R., MORANTE I LLEONART, Joan ramon. Síntesis de capas de SiC en substrato de Si mediante implantación iónica. _Boletin de la Sociedad Española de Ceramica y Vidrio_. 1997. Vol. 36, núm. 3, pàgs. 316-320. [consulta: 23 de gener de 2026]. ISSN: 0366-3175. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/65410]