Miniatura

Fitxers

147813.pdf (384.07 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió acceptada

Data de publicació

2000

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/98754

The role of hydrogen in the formation of microcrystalline silicon

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1016/S0921-5107(99)00324-4

Resum

The growth mechanisms of microcrystalline silicon thin films at low temperatures (100-250°C) by plasma CVD are still a matter of debate. We have shown that ue-Si:H formation proceeds through four phases (incubation, nucleation, growth and steady state) and that hydrogen plays a key role in this process, particularly during the incubation phase in which hydrogen modifies the amorphous silicon network and forms a highly porous phase where nucleation takes place. In this study we combine in-situ ellipsometry and dark conductivity measurements with ex-situ high resolution transmission electron microscopy to improve our understanding of microcrystalline silicon formation.

Matèries

Silici, Hidrogen, Temperatures baixes, Pel·lícules fines

Matèries (anglès)

Silicon, Hydrogen, Low temperatures, Thin films

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

FONTCUBERTA I MORRAL, A., BERTOMEU I BALAGUERÓ, Joan, ROCA I CABARROCAS, P. (pere). The role of hydrogen in the formation of microcrystalline silicon. _Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology_. 2000. Vol. 69-70, núm. 559-563. [consulta: 23 de gener de 2026]. ISSN: 0921-5107. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/98754]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre