Miniatura

Fitxers

112120.pdf (616.14 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

1995

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/13173

Adsorption of colloidal particles in the presence of external fields

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.75.461

Resum

We present a new class of sequential adsorption models in which the adsorbing particles reach the surface following an inclined direction (shadow models). Capillary electrophoresis, adsorption in the presence of a shear, and adsorption on an inclined substrate are physical manifestations of these models. Numerical simulations are carried out to show how the new adsorption mechanisms are responsible for the formation of more ordered adsorbed layers and have important implications in the kinetics, in particular, modifying the jamming limit.

Matèries

Química física, Adsorció, Suspensions (Química), Col·loides, Partícules (Matèria)

Matèries (anglès)

Chemistry, Physical and theoretical, Adsorption, Suspensions (Chemistry), Colloids, Particles

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física de la Matèria Condensada)

Citació

PAGONABARRAGA MORA, Ignacio, BAFALUY BAFALUY, Javier, RUBÍ CAPACETI, José miguel. Adsorption of colloidal particles in the presence of external fields. _Physical Review Letters_. 1995. Vol. 75, núm. 3, pàgs. 461-464. [consulta: 23 de gener de 2026]. ISSN: 0031-9007. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/13173]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre