Miniatura

Fitxers

507389.pdf (192 KB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió acceptada

Data de publicació

2003

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/47367

Substrate influence on the properties of doped thin silicon layers grown by Cat-CVD

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1016/S0040-6090(03)00095-6

Resum

We present structural and electrical properties for p- and n-type layers grown close to the transition between a-Si:H and nc-Si:H onto different substrates: Corning 1737 glass, ZnO:Al-coated glass and stainless steel. Structural properties were observed to depend on the substrate properties for samples grown under the same deposition conditions. Different behaviour was observed for n- and p-type material. Stainless steel seemed to enhance crystallinity when dealing with n-type layers, whereas an increased crystalline fraction was obtained on glass for p-type samples. Electrical conduction in the direction perpendicular to the substrate seemed to be mainly determined by the interfaces or by the existence of an amorphous incubation layer that might determine the electrical behaviour. In the direction perpendicular to the substrate, n-type layers exhibited a lower resistance value than p-type ones, showing better contact properties between the layer and the substrate.

Matèries

Deposició química en fase vapor, Catàlisi, Silici, Nanocristalls, Cèl·lules solars, Pel·lícules fines, Propietats elèctriques

Matèries (anglès)

Chemical vapor deposition, Catalysis, Silicon, Nanocrystals, Solar cells, Thin films, Electric properties

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

SOLER VILAMITJANA, David, FONRODONA TURON, Marta, VOZ SÁNCHEZ, Cristóbal, ASENSI LÓPEZ, José miguel, BERTOMEU I BALAGUERÓ, Joan, ANDREU I BATALLÉ, Jordi. Substrate influence on the properties of doped thin silicon layers grown by Cat-CVD. _Thin Solid Films_. 2003. Vol. 430, núm. 1-2, pàgs. 157-160. [consulta: 25 de febrer de 2026]. ISSN: 0040-6090. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/47367]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre