Miniatura

Fitxers

194020.pdf (4.28 MB)

Tipus de document

Article

Versió

Versió publicada

Data de publicació

2000

Tots els drets reservats

Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/24307

Roughness and light scattering of ion-beam-sputtered fluoride coatings for 193 nm

Títol de la revista

Autors

Director/Tutor

ISSN de la revista

Títol del volum

Recurs relacionat

http://dx.doi.org/10.1364/AO.39.005854

Resum

Scattering characteristics of multilayer fluoride coatings for 193 nm deposited by ion beam sputtering and the related interfacial roughnesses are investigated. Quarter- and half-wave stacks of MgF2 and LaF3 with increasing thickness are deposited onto CaF2 and fused silica and are systematically characterized. Roughness measurements carried out by atomic force microscopy reveal the evolution of the power spectral densities of the interfaces with coating thickness. Backward-scattering measurements are presented, and the results are compared with theoretical predictions that use different models for the statistical correlation of interfacial roughnesses.

Matèries

Dispersió de la llum, Òptica electrònica

Matèries (anglès)

Light scattering, Electron optics

Citació

Col·leccions

Articles publicats en revistes (Física Aplicada)

Citació

FERRÉ BORRULL, Josep, DUPARRÉ, Angela, QUESNEL, Etienne. Roughness and light scattering of ion-beam-sputtered fluoride coatings for 193 nm. _Applied Optics_. 2000. Vol. 39, núm. Issue 31, pàgs. 5854-5864. [consulta: 20 de gener de 2026]. ISSN: 0003-6935. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/24307]

Exportar metadades

JSON - METS

Compartir registre