Carregant...
Tipus de document
Treball de fi de grauData de publicació
Llicència de publicació
Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/125195
Electroresistance in non-tunnelling ferroelectric junctions
Títol de la revista
Autors
Director/Tutor
ISSN de la revista
Títol del volum
Recurs relacionat
Resum
Ferroelectric materials are of potential interest for their integration in memristive devices. Polarization switching in ferroelectric thin film junctions might lead to a change of the electronic band diagram of the device, which can result in important changes of resistance. This effect is known as electroresistance. Electroresistance in 12.2, 24.3 and 36.5 nm BTO thin films junctions is investigated. It is observed that electroresistance decreases with thickness. In addition, ferroelectric characterization allows to conclude that switchable ferroelectric polarization also decreases with thickness. Thus, we conclude that electroresistance is intimately linked to the ferroelectric switching process.
Descripció
Treballs Finals de Grau de Física, Facultat de Física, Universitat de Barcelona, Curs: 2018, Tutor: Ignasi Fina
Matèries (anglès)
Citació
Col·leccions
Citació
PRIETO VIERTEL, Guillermo. Electroresistance in non-tunnelling ferroelectric junctions. [consulta: 25 de febrer de 2026]. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/125195]