Carregant...
Fitxers
Tipus de document
ArticleVersió
Versió publicadaData de publicació
Tots els drets reservats
Si us plau utilitzeu sempre aquest identificador per citar o enllaçar aquest document: https://hdl.handle.net/2445/22090
Quantitative x-ray photoelectron spectroscopy study of Al/AlOx bilayers
Títol de la revista
Director/Tutor
ISSN de la revista
Títol del volum
Recurs relacionat
Resum
An x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis of Nb/Al wedge bilayers, oxidized by both plasma and natural oxidation, is reported. The main goal is to show that the oxidation state¿i.e., O:(oxidize)Al ratio¿, structure and thickness of the surface oxide layer, as well as the thickness of the metallic Al leftover, as functions of the oxidation procedure, can be quantitatively evaluated from the XPS spectra. This is relevant to the detailed characterization of the insulating barriers in (magnetic) tunnel junctions
Matèries (anglès)
Citació
Citació
BATLLE GELABERT, Xavier, HATTINK, Bart jan, LABARTA, Amílcar, ÅKERMAN, Johan j., ESCUDERO, Roberto, SCHULLER, Ivan k.. Quantitative x-ray photoelectron spectroscopy study of Al/AlOx bilayers. _Journal of Applied Physics_. 2002. Vol. 91, núm. 12, pàgs. 10163-10168. [consulta: 29 de abril de 2026]. ISSN: 0021-8979. [Disponible a: https://hdl.handle.net/2445/22090]